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电子级氢氧化钠(45%~50%)
超高纯度、低杂质、高稳定性、强氧化性
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电子级双氧水(31%~50%)
超高纯度、低杂质、高稳定性、强氧化性、清洁无残留
核心用于半导体、光伏、显示面板等精密电子制造的清洗、蚀刻等制程
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